化学气相沉积CVD真空泵

化学气相沉积CVD真空泵 

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)

CVD是气态物质在气相或气固界面上发生反应生成固态粉末或薄膜材料过程。化学气相沉积作为一种表面镀膜方法，其基本步骤有需镀物料气相化->输运->沉积。它的主要特点在于不管原来需镀物料是固体、液体或气体，在输运时都要转化成气相形态进行迁移，最终到达工件表面沉积凝聚成固相薄膜。

在做镀膜过程中，真空腔室会产生一定的粉尘和腐蚀性气体，这就需要真空泵能抗一定的粉尘和腐蚀性。

汉钟IPH系列半导体真空泵，在国内12寸CVD设备上运行稳定，等到设备商的高度认可，有望填补中国半导体真空泵空白。