金刚石镀膜介绍

金刚石镀膜介绍

金刚石具有高硬度，高弹性模量，良好的导热性能与化学稳定性，以及其低摩擦系数，耐腐蚀等优点，使其成为现代机械加工中较为理想的涂层材料。

目前制备金刚石薄膜制备方法主要有化学气相沉积(CVD)和高温高压合成两种方法。其中金刚石薄膜的CVD法又主要分为微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)和热辅助化学气相沉积(HFCVD)两种。但模拟天然金刚石生成环境的高温高压法会限制薄膜大小和质量；当下的HFCVD技术虽然可以较快地制备出大面积、高均匀度的金刚石薄膜，但所含杂质较高；现较为成熟的MPCVD装置可以制备出高质量、较大面积的金刚石薄膜，但MPCVD法制备的金刚石薄膜仍然具有晶粒尺寸较大的问题。

  MPCVD 法制备高质量的单晶金刚石需要十分严格的生长条件，在生长过程中会受到各方面因素的影响，同时沉积参数之间也会相互产生影响，其中产生主要影响的有衬底预处理、微波功率密度及甲烷浓度、氮气的添加等。