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真空技术

汉钟干式螺杆泵之PECVD应用

2018-07-23 点击数:848

汉钟干式螺杆泵之PECVD应用

由于目前国内半导体生产制造企业在半导体设备研发、技术不够成熟、过于依赖国外的设备及技术且设备及技术被国外公司垄断卡死。

因此半导体行业成为国家的重点改造及大力扶持的重中之重。针对半导体制造设备提出严格要求。

《中国制造2025》对于半导体设备国产化提出了明确要求:在2020年之前,90~32纳米工艺设备国产化率达到50%,实现90纳米光刻机国产化,封测关键设备国产化率达到50%。在2025年之前,20~14纳米工艺设备国产化率达到30%,实现浸没式光刻机国产化。到2030年,实现18英寸工艺设备、EUV光刻机、封测设备的国产化。

半导体的制造从硅砂至成品、很多工艺需要使用真空、由于国内真空设备起步较德国、美国、日本等较晚、很多技术达不到要求、不得不选用进口泵。

汉钟精机经过多年来的摸爬滚打、在真空领域已然站稳脚步、在化工医药、光伏、半导体及锂电等行业的认可及口碑。汉钟的生产技术工艺已然达到国际水准、箭头直指国外各品牌。

响应国家号召、汉钟螺杆真空泵成为国内半导体设备替换首先品牌。

近年来国内很多企业PECVD设备上采用汉钟螺杆真空泵、感谢中国电子科技集团四十八所、天合光能股份有限公司、台湾茂迪股份有限公司等等企业对汉钟的认可及支持。

汉钟品质、值得信赖。

汉钟干式螺杆泵之PECVD应用

由于目前国内半导体生产制造企业在半导体设备研发、技术不够成熟、过于依赖国外的设备及技术且设备及技术被国外公司垄断卡死。

因此半导体行业成为国家的重点改造及大力扶持的重中之重。针对半导体制造设备提出严格要求。

《中国制造2025》对于半导体设备国产化提出了明确要求:在2020年之前,90~32纳米工艺设备国产化率达到50%,实现90纳米光刻机国产化,封测关键设备国产化率达到50%。在2025年之前,20~14纳米工艺设备国产化率达到30%,实现浸没式光刻机国产化。到2030年,实现18英寸工艺设备、EUV光刻机、封测设备的国产化。

半导体的制造从硅砂至成品、很多工艺需要使用真空、由于国内真空设备起步较德国、美国、日本等较晚、很多技术达不到要求、不得不选用进口泵。

汉钟精机经过多年来的摸爬滚打、在真空领域已然站稳脚步、在化工医药、光伏、半导体及锂电等行业的认可及口碑。汉钟的生产技术工艺已然达到国际水准、箭头直指国外各品牌。

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