产品技术支持
联系人:郭 旺
手机:18020201599
传真:0512-50169299
邮箱:pascal_guo@163.com
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ),等离子体增强化学的气相沉积法。
也是化学气相沉积的一种镀膜设备。PECVD广泛应用也半导体、LED、光伏等行业,用于在晶体表面形成薄膜的设备。
应用在光伏行业的PECVD分为2钟,一种是管式太阳能PECVD;一种是板式太阳能PECVD。
PECVD设备主要有5大部分组成:晶片装载区、炉体、特气柜、真空系统、控制系统。
在炉体内有石英管,石英管是镀膜的作业区域,耐高温和防反应。
每个石英管配置一组泵,泵组是有上泵和下泵组成,真空系统根据阀门的开度来调节管内的真空度。一般PECVD工作时,管内的真空度要维持在10Pa~100Pa左右。
台湾汉钟干式螺杆真空泵组为国内外PECVD设备厂商配套真空泵,产品在光伏行业内大量应用。